• 고휘도 FIB system : ‘Prometheus‘

① 고휘도 ICP Ion Source 적용
② High Speed Cutting 가능
③ 컴팩트 고진공 챔버 구현
④ Hybrid Stage System 구현
    → Micro Positioner 장착

 

  • 고휘도 ICP Ion Source

 

  Xe, Ar Inert Gas

  Ion source 사용 시간 확대

  > 2000hr 이상 안정적인 사용

 

  고휘도 FIB LMIS FIB Remarks
Ion Beam Source Plasma Source LMIS Source  
Ion Beam Source Gas Xe ( @ICP ) Ga(@Liquid )  
Beam Current > 1000 nA < 65nA Strongest Beam
Milling Speed 1.2 hr @300㎛ > 6hr @300㎛ Up to 5X Speed
Source Life time > 2,000 hr < 1,000 hr